Fungsi Inti dan Aplikasi Utama

Perlindungan Inert (Anti-oksidasi/Pencegahan Kelembapan): Stabil secara kimia, nitrogen mengisolasi oksigen dan kelembapan, sehingga mencegah oksidasi atau kontaminasi bahan sensitif seperti wafer silikon, interkoneksi logam, dan photoresist. Skenario umum meliputi: penyimpanan/transportasi wafer, pelapisan photoresist, deposisi film tipis CVD/ALD, anil termal cepat (RTA), dan pengikatan kawat.

Kontrol Proses dan Gas Pembawa: Ia bertindak sebagai gas pembawa untuk mengangkut prekursor, memastikan pengirimannya seragam ke dalam ruang reaksi. Ini juga berfungsi sebagai pengenceran atau gas latar untuk menstabilkan plasma, mengatur laju reaksi, dan meningkatkan keseragaman film tipis serta presisi profil etsa. Skenario umum meliputi: CVD/ALD, etsa plasma, dan buffering implantasi ion.

Pembersihan dan Pemurnian: Ini secara menyeluruh membersihkan zat sisa dari ruang peralatan dan saluran pipa untuk mencegah kontaminasi silang. Selain itu, ini mempertahankan tekanan positif di dalam ruang bersih dan membentuk penghalang tirai udara pelindung. Skenario umum meliputi: peralihan ruang pada alat litografi/etsa, peralihan saluran gas, dan pemeliharaan tekanan positif ruang bersih.

Aplikasi Tambahan dan Khusus: Melindungi chip selama proses suhu tinggi; menghambat oksidasi solder dan meningkatkan keterbasahan selama reflow SMT dan penyolderan gelombang; meminimalkan oksidasi permukaan selama pemrosesan laser; dan menyediakan lingkungan penyimpanan inert untuk komponen sensitif (seperti kepala magnetik dan LED) untuk mengurangi tingkat kegagalan.